سوسپانسيون هاليت‌كرونديوم جهت فرآيندهاي پوليش، بخصوص پوليش شيميايي- مكانيكي سطح ويفرگاليم‌آرسنايد با فرمول شيميايي [2( ALCLNaO3H)] است كه با امتزاج دو فاز مايع و جامد آن با تركيب‌درصدهاي مشخص و روشهاي شيميايي اختراع شده است. فاز مايع اين سوسپانسيون از تركيبات هالوژنه و اكسنده كه فعاليت، واكنش‌پذيري و همچنين توانايي اكسيد كردن سطح گاليم آرسنايد را به دليل بالا بودن الكترونگاتيويته دارند تشكيل شده و فاز جامد آن نيز از تركيبات معدني بدون تأثير روي فاز مايع، ارزان و قابل دسترس هاليت و كرونديوم كه داراي سختي و اندازه ذرات مشخصي هستند ساخته شده است. اين دو فاز در بستر يك سيال معدني بنام آب بدون يون بطور كاملاً پايدار قرار دارند بصورتي كه نيازي به كنترل آنها حين انجام فرآيند نيست. اين اختراع جهت كاربرد در فرآيند پوليش شيميايي- مكانيكي سطح ويفر گاليم آرسنايد انجام گرفته و در نتيجه كاربرد اين سوسپانسيون سطح ويفر گاليم آرسنايد در مقياس نانو كاملاً صاف، يكنواخت، آينه‌اي و صيقلي شده و جهت كاربردهاي اپتوالكترونيكي مانند ساخت ليزر يا كاربردهاي ديگر مانند انواع لايه‌نشانيهاي حساس آماده مي‌شود.

فرايندهاي پرداخت سطحي در ساخت ادوات نيمه هادي و قطعات اپتوالكترونيكي داراي اهميت ويژه اي هستند كه از جمله آنها مي توان به فرايندهاي سايش و پوليش كاري اشاره كرد. كيفيت انجام اين فرايندها بر روي فلز مس نقش بسزايي در توليد چاهكهاي گرمايي دارند. با توجه به اهميت ساخت و توليد بهينه چاهكهاي گرمايي از جنس فلز مس، فرايند ديگري مورد نياز است تا بتوان عمليات پرداخت نهايي بر روي فلز مس را با كيفيت مطلوب تري انجام داد. در همين راستا فرايند پوليش مياني معرفي شده است تا به كمك آن بتوان عمل بهينه سازي سطح و ويژگيهاي سطحي را انجام داد. در كنار فرايند سايش كه هدف از آن كاهش ضخامت فلز مس است و همچنين فرايند پوليش كاري كه با هدف صيقل دهي و آيينه اي كردن سطح انجام مي گيرد فرايند پوليش مياني به منظور ايجاد سطحي با سختي كمتر و در نتيجه نرمي زياد و همين طور سطحي با تختي و همواري ايده ال در بين دو فرايند مذكور قابل انجام است.